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萊特萊德經常采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業用水需求。...
電子晶圓行業超純水設備現階段正從晶圓的基本水平起，執行維護晶圓純凈度的崗位職責，不斷平穩地制取達到晶圓生產制造需用的超純水系統，產水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...
萊特萊德EDI超純水設備產出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業。未來，不僅僅是科技時代，更是環保綠色的時代。...
萊特萊德超純水設備采用EDI技術，減少污染，滿足綠色環保工藝生產的特點，與其他同類產品相比，具有更高的性價比和設備可靠性，助力“點亮”中國“芯”。...
萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，可根據不同用戶的需要，為不同水質、不同水量、不同水質要求而定制設計的超純水設備，其水質穩定、操作簡單、運行成本低、綠色環保、易維護...
萊特萊德公司結合膜分離技術，采用反滲透結合EDI裝置和精混床的工藝制備超純水，其出水電阻率可達18MΩ·cm(25℃)，有助于中國“芯”的發展。...
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