芯片的設計與制造是一個非常復雜的產業鏈，它不僅鏈路長，各個環節還緊密相扣。芯片設計公司必須掌握先進半導體制造技術，才能讓整個鏈條的協作更加順暢。而且，掌握先進制造技術，可以提高芯片產品良率，提高產品集成度，還可以反向推動制造和封測的技術創新。

　　芯片的制造主要分三大生產環節：晶圓、封裝和測試。在整個制造過程中，如何取得質量、產出和成本的優化，提升產品的整體競爭力，是一家設計公司綜合技術實力的體現。很多人不知道的是，芯片生產過程是離不開超純水的，超純水用于芯片的各個清洗環節，是十分重要的。超純水的制造來不開超純水設備，因此，超純水設備也為芯片生產助力。

　　一個8英寸的晶圓可以生產大約100個芯片，需要2000加侖的超純水來達到所需的純度。據國際半導體設備和材料組織估計，2007年生產了1730萬英寸硅片，消耗的超純水足以填滿50萬個奧林匹克游泳池，從另一個角度反映了半導體行業對超純水的巨大需求。

　　萊特萊德超純水設備采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準。

　　芯片是信息技術發展的核心，是支持現代經濟社會發展的基礎性和主導性產業。隨著現在經濟的不斷發展，集成電路的設計對于水質要求不斷提高，所以在生產中需要用到超純水來保障其性能。