保持電子芯片的干凈清潔是維護(hù)其正常功能的重要工作，當(dāng)電子芯片被灰塵、微粒、細(xì)菌等雜質(zhì)污染時(shí)，其功能就會(huì)大打折扣甚至直接報(bào)廢。為了確保電子芯片功能穩(wěn)定、降低生產(chǎn)企業(yè)的報(bào)廢率，對(duì)芯片進(jìn)行清洗就要采用到超純水。超純水不同于普通的純凈水，它的成分簡(jiǎn)單，除了水分子之外幾乎不含有任何有機(jī)物、微生物、細(xì)菌、金屬離子，在沖洗電子芯片過(guò)程中不會(huì)影響其功能穩(wěn)定。

　　EDI超純水設(shè)備可以穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)超純水，采用了EDI技術(shù)、反滲透技術(shù)和深度脫鹽技術(shù)。EDI技術(shù)應(yīng)用時(shí)不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，后續(xù)工藝避免了酸堿中和處理，環(huán)保性能很強(qiáng)。此外，EDI模塊進(jìn)水為二級(jí)反滲透產(chǎn)水，經(jīng)EDI系統(tǒng)脫鹽后，EDI濃水水質(zhì)仍優(yōu)于一級(jí)反滲透產(chǎn)水，可回流至一級(jí)反滲透產(chǎn)水箱。

　　反滲透環(huán)節(jié)主要是反滲透膜發(fā)揮作用，它的膜孔徑很小、抗污染能力強(qiáng)，可以有效截留所有離子，充分去除微生物、礦物質(zhì)和微量元素等雜質(zhì)，只保留氫氧原子。深度脫鹽工藝段可以對(duì)水中的鹽分充分去除，根本上保證超純水出水水質(zhì)。總之，EDI超純水設(shè)備生產(chǎn)超純水連續(xù)穩(wěn)定、技術(shù)可靠、安全性高，能為電子芯片清洗需要的超純水進(jìn)行穩(wěn)定供給，為生產(chǎn)企業(yè)提供便利。